Missouri Innovation Campus / DLR Group + Multistudio

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  • Categoria: Universidade
  • Líderes De Design: DLR Group Senior Principal Jim French, FAIA and Gould Evans Principal David Reid
  • Arquitetos Responsáveis: DLR Group and Gould Evans Architects
  • Engenharia Estrutural: DLR Group
  • Branding: DLR Group
  • Gerente De Projeto: DLR Group Principal Kevin Greischar
  • Construção: McCown Gordon
  • Engenharia: Henderson Engineers Inc
  • Cidade: Lee's Summit
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Missouri Innovation Campus / DLR Group + Multistudio - Fotografia de Exterior, Fachada
© Michael Robinson

Descrição enviada pela equipe de projeto. As instalações de alta tecnologia com foco em STEM (Ciência, Tecnologia, Engenharia e Matemática) no Missouri Innovation Campus (MIC) atendem a 600 estudantes do Distrito Escolar Lee’s Summit R-7 e 1.200 estudantes da University of Central Missouri. O programa 2 + 2 do MIC, fruto de uma colaboração entre parceiros acadêmicos e do setor corporativo, concentra-se em resultados de aprendizagem por meio de uma experiência imersiva e real de ambiente de trabalho. Os concluintes do ensino médio podem obter simultaneamente um diploma de tecnólogo, seguido por um diploma de bacharelado dois anos mais tarde. Estudantes de 16 a 30 anos trabalham em salas de aula e ambientes de trabalho em busca do mesmo diploma. Esses benefícios se traduzem em uma graduação mais rápida, menos dívidas estudantis e maior probabilidade de inserção no mercado de trabalho. Os programas de bacharelado incluem Tecnologia em Engenharia de Sistemas, Tecnologia de Design e Desenho Técnico, Ciência da Computação e Cibersegurança.

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Sobre este escritório
Cita: "Missouri Innovation Campus / DLR Group + Multistudio" [Missouri Innovation Campus / DLR Group + Multistudio] 12 Dez 2018. ArchDaily em Português. Acessado . <https://www.archdaily.com.br/pt/1144974/missouri-innovation-campus-dlr-group-plus-multistudio> ISSN 0719-8906

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