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Estudio Whitney / LOT-EK Architecture & Design

© Danny Bright
Centro Artes Visuales
•
New York, Estados Unidos
  • Arquitectos: LOT-EK; LOT-EK
  • Área Área del proyecto de arquitectura Área:  65 m²
  • Fotógrafos
    Fotografías:Danny Bright
  • Proveedores Marcas y productos usados en este proyecto de arquitectura
    Proveedores:  Knoll International, Lutron, Novotech, SONOS, Dow Building Solutions, Benjamin Moore, EPDM Roofing, Hempel, Legion Lighting, Mitsubishi Electric, Push Designs, Rakks, Samsung, Sonneborn, Talon, Vitra

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LOT-EK
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Acero

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Cita: "Estudio Whitney / LOT-EK Architecture & Design" [Whitney Studio / LOT-EK Architecture & Design] 20 ene 2013. ArchDaily en Español. Accedido el . <https://www.archdaily.cl/es/02-228298/estudio-whitney-lot-ek-architecture-design> ISSN 0719-8914

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