收藏这幅画!© Andy Stagg + Tian Khee Siong+ 9 审稿编辑 Paula Pintos阅读 英文 原文 点击这里. 分享 分享或https://www.archdaily.cn/zh/1172177/ling-lei-sha-li-zhan-lan-studio-mutt 剪贴板 "COPY" 复制•London, 英国 建筑师: Studio MUTT 面积 该建筑项目的领域 面积: 325 m² 项目年份 该建筑项目的竣工年份 项目年份: 2023 摄影师 摄影师:Andy Stagg + Tian Khee Siong 厂家 该项目中使用产品的品牌 厂家: Dufaylite, ECOBoard 材料 translation missing: zh-CN.post.svg.material_description Lei Bie: 文化建筑, 展陈建筑主创建筑师: Graham Burn, James Crawford, Alexander Turner, Emma Loughnane | Studio MUTT 城市: London地区: 英国展开收起 收藏这幅画!© Andy Stagg + Tian Khee Siong收藏这幅画!© Andy Stagg + Tian Khee Siong