兴耀科创城 / gad

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杭州, 中国
  • 建筑师: gad
  • 面积 该建筑项目的领域 面积:  189223 m²
  • 项目年份 该建筑项目的竣工年份 项目年份:  2023
  • 摄影师
    摄影师:CreatAR Images
  • 厂家 该项目中使用产品的品牌
    厂家:  Qibin Glass, Xingfa Aluminum
  • Lei Bie: 办公设施
  • 结构设计: gad杰地设计
  • 景观设计: gad杰地设计
  • 室内设计: 矩阵纵横设计股份有限公司
  • 委托方: 兴耀控股集团
  • 城市: 杭州
  • 地区: 中国
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兴耀科创城 / gad - 建筑图, 表皮
© CreatAR Images

兴耀科创城位于杭州市高新区,周边汇聚了众多科技园与产业园。基地两侧均为上世纪末建设的老旧工业厂房与少量新兴的科技园,产业空间较为单调且缺乏可交流的休闲场所,城市服务能力较弱。本案设计不仅聚焦其内在办公功能,如何为周边区域增添积极、开放的城市空间和界面,成为设计中需要着重考量的一环。

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关于这家事务所
引用: "兴耀科创城 / gad" [Xingyao Science and Innovation Park / gad] 08 8月 2023. ArchDaily 中文版. Accesed . <https://www.archdaily.cn/zh/1005124/xing-yao-ke-chuang-cheng-gad-design>

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